Ústav fyziky kondenzovaných látek - Department of Condensed Matter Physics

Laboratoř polovodičů – čisté prostory

Úvod Výuka CŽV Vybavení Ukázky Historie

Ukázky připravených desek

naoxidovane desky
Naoxidované desky.

rezistor kondenzator
Deska z pokročilého praktika – rezistory, kondenzátory.

zpracovane desky
Desky zpracované v praktiku se třemi litografickými kroky.

PF 2012

Přejeme přátelům naší laboratoře mnoho úspěchů v novém roce. Těšíme se na vzájemnou spolupráci.

PF 2012 – fotografie křemíkové desky.

PF 2011

Přejeme přátelům naší laboratoře mnoho úspěchů v novém roce. Těšíme se na vzájemnou spolupráci.

PF 2011 – fotografie křemíkové desky.

Jakým procesem byla tato péefková deska (vlevo) vyrobena? Na počítači jsme nakreslili obrázek a ten vytiskli na fólii, čímž vznikla maska pro fotolitografii. Na křemíkovou desku s naprášenou vrstvou hliníku jsme pozitivním fotolitografickým procesem tento motiv přenesli. Pak byl hliník vyleptán a fotorezist smyt.

PF 2010

Přejeme přátelům naší laboratoře mnoho úspěchů v novém roce. Těšíme se na vzájemnou spolupráci.

PF 2010 – fotografie křemíkové desky.

Maska pro fotolitografii.

Jakým procesem byla tato péefková deska (vlevo) vyrobena? Na počítači jsme nakreslili obrázek a ten vytiskli na fólii, čímž vznikla maska pro fotolitografii (vpravo). Na křemíkovou desku s naprášenou vrstvou hliníku jsme pozitivním fotolitografickým procesem tento motiv přenesli. Pak byl hliník vyleptán a fotorezist smyt.
Poznámka k pozitivnímu procesu: černý inkoust kryje masku – hliník neodleptán; průhledná maska nezakrytá inkoustem – proleptáno na křemík.

PF 2009

Přejeme přátelům naší laboratoře mnoho úspěchů v novém roce. Těšíme se na vzájemnou spolupráci.

PF 2009 – fotografie křemíkové desky, proces s pozitivním fotorezistem.

PF 2009 – fotografie křemíkové desky, proces s negativním fotorezistem.

Proces přípravy desky je velmi podobný procesu z praktika "rezistor, kondenzátor, induktor". Na počítači jsme nakreslili obrázek a ten vytiskli na fólii, čímž vznikla maska pro fotolitografii. Na oxidovanou křemíkovou desku (dávající podkladu zelenavou barvu) s naprášenou vrstvou hliníku jsme procesem s pozitivním a negativním fotorezistem tento motiv přenesli. Pak byl hliník vyleptán a fotorezist smyt.
Poznámka k pozitivnímu procesu: černý inkoust kryje masku – hliník neodleptán; průhledná maska nezakrytá inkoustem – proleptáno na oxid křemíku. U negativního procesu je tomu opačně.
Dotaz pro zvídavé technology: Jaký je tedy černobílý obrázek námi použité masky? Zde je správné řešení.

Článek v Československém časopise pro fyziku

V květnovém čísle Československého časopisu pro fyziku vyšel článek o výuce a výzkumu na našem ústavu: ÚFKL PřF MU: polovodiče, nanostruktury, čisté prostory. Naskenovaný článek si můžete přečíst zde. V tomto článku informujeme stručně o výzkumu v oblasti polovodičových materiálů a struktur na ÚFKL, podrobněji pak o nově otevřené laboratoři polovodičů – čistých prostorách pro křemíkovou technologii.
Citace: J. Humlíček, P. Mikulík, Čs. čas. fyz. 58 85 (2008).

PF 2008

Přejeme přátelům naší laboratoře mnoho úspěchů v novém roce. Těšíme se na vzájemnou spolupráci.

PF 2008 – fotografie křemíkové desky.

Maska pro fotolitografii.