Mgr. Ondřej Jašek, Ph.D.
vedoucí laboratoře
studium mikrovlnného plazmatu, uhlíkových nanostuktur a nanomateriálů
Laboratoř mikrovlnného a vysokofrekvenčního plazmatu najdete v podzemním podlaží budovy č.2 areálu PřF MU Kotlářská 2. Mikrovlnné plazma je univerzální platformou pro studium nestabilit plazmatu a syntézu pokročilých materiálů. V laboratoři je také umístěna aparatura pro přípravu tenkých vrstev pomocí vysokofrekvenčních výbojů.
Mikrovlnné a vysokofrekvenční plazma je jednoduché, vysoce účinné a univerzální. S jeho pomocí lze vytvářet nanomateriály na bázi kovů a uhlíku rozkladem organických prekurzorů v závislosti na teplotě a tlaku. Nanočástice kovů nebo železa pak mohou sloužit jako katalyzátor pro vytváření nanotrubek. V naší laboratoři používáme vysokoteplotní mikrovlnné plazma pro rozklad uhlovodíků i generaci vodíku pro moderní energetiku, nízkoteplotní plazma vysokofrekvenčních výbojů zase pro depozice široké škály funkčních vrstev na různé druhy povrchů.
Načítám mapu…
vedoucí laboratoře
studium mikrovlnného plazmatu, uhlíkových nanostuktur a nanomateriálů
studium mikrovlnného plazmatu a jeho samoorganizace
depozice tenkých vrstev (PECVD, PVD), charakterizace mechanických vlastnosti tenkých ochranných povlaků
vývoj technologií pro přípravu tenkých vrstev pomocí PECVD a analýza tenkých vrstev
Mikrovlnné plazma je možno budit v širokém rozmezí podmínek jako je tlak, dodávaný výkon nebo plynné prostředí. V závislosti na těchto parametrech je pak plazma difúzní, filamentární nebo v podobě striací. Princip buzení filamentů, jejich stabilita, vzájemné postavení a chování jednotlivých filamentů ve směsi argonu a reaktivních plynů jsou jednou z neobjasněných otázek současné fyziky plazmatu, jejímuž výzkumu se věnujeme. Dále zkoumáme vliv teploty plazmatu a koncentrace elektronů v plazmatu na proces syntézy nanomateriálů v přítomnosti organických prekurzorů a příměsí reaktivních plynů.
Uhlíkové nanostruktury jako materiál jsou velmi lehké, odolné, mají obrovskou plochu povrchu a dobrou elektrickou i tepelnou vodivost. Grafén je nejmodernější uhlíkový dvourozměrný nanomateriál tvořený jen jedinou rovinou uhlíkových atomů uspořádaných do šestiúhelníkové grafitové sítě. Uhlíkové nanostruktury lze připravit ve formě fullerenů, nanokrystalických částic, nanovláken i nanotrubek. Nanotrubky jsou také tvořeny z jedné atomové vrstvy atomů uhlíku ale tak, že celá struktura má formu jednoho nebo více vzájemně do sebe zapuštěných válců.
Uhlíkové nanomateriály se používají jako vysoce pevné a houževnaté kompozity, z kterých jsou vyráběny tenisové rakety, snowboardy, automobily, letadla i rakety létající do vesmíru. Spojení výborných mechanických vlastností, chemické odolnosti a velkého povrchu umožňují použití těchto materiálů jako membrány pro absorpci nebezpečných látek, separaci chemikálií nebo čištění vody. Obrovský potenciál těchto struktur je také ve výrobě energie a masivní produkci nových baterií a superkondenzátorů. Námi připravené uhlíkové nanomateriály byly použity jako senzory nebezpečných plynů nebo jako kompozitní materiály pro elektromagnetickou absorpci. Mají vynikající elektrickou vodivost a značnou odolnost vůči oxidaci za vysokých teplot.
Vysokoteplotní mikrovlnné plazma je také ideálním nástrojem pro rozklad organických sloučenin a generaci syntetického plynu a vodíku pro moderní energetiku.
Nanočástice mají velmi malé rozměry. Lze je vytvořit mnoha způsoby a v různých podobách. Syntéza nanočástic v mikrovlnném plazmatu používá rozklad organických prekurzorů za vysoké teploty a následné vytvoření nanočástic z požadovanými fyzikálními a chemickými vlastnostmi. V naší laboratoři se se v minulých letech zabývali například přípravou magnetických nanočástic s přesnou fázovou strukturou, které byly dále testovány v oblastech jako magnetická rezonance a buněčné terapie, ferokapaliny nebo fotoelektrochemický rozklad vody.
V laboratoři se nachází dvě zařízení na depozici tenkých vrstev. Prvním je reaktor GEC (Gaseous Electronic Cell) a reaktor pro velkoplošné nanášení tenkých vrstev. Oba typy reaktorů mohou být použity pro depozice tenkých vrstev a diagnostiku plazmatu.
Velkokapacitní reaktor označovaný jako R4 slouží pro velkoplošné nanášení tenkých vrstev pomocí PECVD metody. Reaktor R4 jsme vyvinuli jako funkční vzorek v rámci výzkumu podporovaném projektem TAČR NCK TN01000038/17, Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace. Uvnitř reaktoru se nachází buzená a zemněná elektroda. Mezní tlak aparatury je 10-4 Pa. Použitelné jsou zdroje DC i RF 13,56 MHz a 27,12 MHz. Výkon dodávaný do plazmatu je 0 - 600 W.
Plazmochemická depozice z plynné fáze (PECVD) je hojně používanou technikou pro depozici tenkých vrstev. Tato metoda využívá energii z plazmatu pro štěpení vazeb tzv. prekurzoru a nosného plynu. Tyto dvě látky spolu následně reagují v objemu reaktoru a na stěnách/elektrodách reaktoru, kde se vytváří tenká vrstva. Tenké vrstvy se využívají pro zlepšení povrchových vlastností objemových materiálů. Lze například ovlivnit povrchovou energii (smáčivost), elektrické, optické a termální vlastnosti při zachování objemových vlastností podeponovaného objektu. Na tomto zařízení deponujeme například diamantu podobné vrstvy (DLC).